納米劃痕測試儀 (NST3)
儀器簡介：
市場上精 確的納米劃痕測試儀
納米劃痕測試儀專門用于表征厚度小于 1000 nm 的薄膜和涂層的結(jié)合力。納米劃痕測試儀可用于分析有機(jī)的和無機(jī)的以及軟的和硬的薄膜。如：薄的和多層的 PVD、CVD、PECVD、光刻膠、油漆、涂料和其他各種薄膜。NST3 涵蓋光學(xué)、微電子、防護(hù)、裝飾等 應(yīng)用領(lǐng)域。基體可以是硬的或軟的，包括合金、半導(dǎo)體、玻璃、可折射的和有機(jī)材料。
主要特點(diǎn)：
●施加較小的載荷時(shí)具有*快的響應(yīng)速度
納米劃痕測試儀帶有載荷傳感器，采用雙懸臂梁用于施加載荷，以及壓電式驅(qū)動器用于對施加的載荷快速響應(yīng)。這一設(shè)計(jì)理念還修正了在劃痕過程中發(fā)生的任何事件（例如出現(xiàn)裂紋和失效、缺陷或樣品不平整）而導(dǎo)致的測量結(jié)果偏差。
●適用于彈性恢復(fù)研究的磚利真實(shí)劃痕位移測量
在劃痕之前、過程和之后，位移傳感器 (Dz) 一直記錄樣品的表面的輪廓。這讓您可以在劃痕過程中或之后評估針尖的位移量，從而可以評估材料的彈性、塑性和粘彈性能（磚利：US 6520004）
●不打折扣：施加任何微牛級的載荷
閉環(huán)主動力反饋系統(tǒng)可在 1 μN 以下進(jìn)行更精 確的納米劃痕測試。納米劃痕測試儀包含一個(gè) 傳感器測量載荷，可以直接反饋給法向載荷驅(qū)動器。這**施加的載荷就是用戶設(shè)置的載荷。
●***光學(xué)成像帶“跟蹤聚焦”功能
集成顯微鏡包括配置***物鏡的轉(zhuǎn)塔和 USB 照相機(jī)。劃痕成像時(shí)，能輕松將放大倍數(shù)從 x200 轉(zhuǎn)換為 x4000，實(shí)現(xiàn)在低放大倍數(shù)和高放大倍數(shù)自由切換從而更好地對樣品進(jìn)行評估。“跟蹤聚焦”功能可以進(jìn)行將多個(gè)劃痕的 Z 樣品臺自動聚焦到正確位置。
●劃痕后可用多次后掃描模式評估彈性性能
劃痕后，您可以在軟件中用時(shí)間增量定義無限次后掃描測量殘余位移。這種全新的分析方法將讓您進(jìn)一步了解表面變形性能與時(shí)間的依賴關(guān)系。
典型應(yīng)用：
¨聚合物：薄膜和/或表面特性表征（耐磨損性）
¨薄膜聚合物基體氧化物涂層
¨*納米金剛石 (UNCD) 薄膜的機(jī)械性能
¨硬質(zhì)涂層（PVD、CVD 涂層）：厚度小于 1 微米
¨晶圓：厚度范圍為 10 nm 至 500 nm
¨光學(xué)和玻璃：薄膜和/或表面特性表征（耐劃擦性）
¨涂層表面的物理特性分析
技術(shù)指標(biāo)：
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施加的載荷 |
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分辨率 |
0.01 μN(yùn) |
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*大載荷 |
1000 mN |
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本底噪音 |
0.1 [rms] [μN(yùn)]* |
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摩擦力 |
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分辨率 |
0.3 μN(yùn) |
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*大摩擦力 |
1000 mN |
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位移 |
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分辨率 |
0.3 nm |
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*大位移 |
600 μm |
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本底噪音 |
1.5 [rms] [nm]* |
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速度 |
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速度 |
從 0.4 mm/min 到 600 mm/min |
***實(shí)驗(yàn)室條件下規(guī)定的本底噪音值，并使用減震臺。
